우리나라 중소기업의 반도체 장비 기술이 국제전기기술위원회(IEC)에 신규 국제표준안(NP, New Proposal)으로 제안됐다.

산업통상자원부 국가기술표준원은 15일 첨단산업의 국제 표준화 지원을 위한 현장 행보로 국내 반도체 장비 기업 이솔(E-SOL)을 방문해 국제표준화 추진현황을 청취하고 지원방안을 논의했다고 밝혔다. 

이솔은 반도체 극자외선(EUV) 공정에 사용되는 마스크 계측·검사 장비 및 펠리클(Pellicle, 보호박막)의 투과도 검사 장비 등을 제작·판매하는 EUV 장비 제조기업이다.

EUV 공정은 초미세 반도체 공정에서 EUV 광(光)이 미세회로가 그려진 마스크를 통해 웨이퍼에 회로를 새기는 방식이다. 펠리클은 마스크 위에 씌워져 미세먼지 등의 오염으로부터 마스크를 보호하는 박막으로, EUV 공정에서 펠리클의 EUV 투과도는 초미세 반도체 수율에 큰 영향을 미친다.

이솔은 산업부 소재부품개발기술사업을 수행해 펠리클 투과도 검사장비를 개발하고 동 장비를 활용한 펠리클의 EUV 투과도 검사방법을 IEC에 신규 국제표준안으로 제안했다. 이번 표준안이 회원국의 투표를 통해 신규개발 항목으로 채택되고 향후 국제표준으로 발간된다면 표준화된 펠리클 투과도 검사방법 정립으로 펠리클 품질 향상에 기여할 것으로 기대된다.

최승민 이솔 전무는 “국제표준안 제안으로 그동안의 기술개발 성과가 더욱 탄탄해지고 있다”며 “이번 표준안이 채택된다면 반도체 최첨단 공정(EUV)에서 국산 설비가 시장을 선점할 수 있는 좋은 기회가 될 것으로 기대된다”고 말했다. 

진종욱 국표원장은 “우리나라가 첨단 반도체 장비 분야로도 국제표준을 확대해 나가는 것은 고무적”이라며 “제안된 신규표준안이 국제표준으로 최종 발간될 수 있도록 기업과 전문가의 국제표준화 활동을 적극 지원하겠다”고 밝혔다.